Komponen Vakum Suhu Dhuwur
Perawatan panas utamane kalebu proses oksidasi, difusi lan anil.Oksidasi minangka proses aditif ing ngendi wafer silikon dilebokake ing tungku suhu dhuwur lan oksigen ditambahake kanggo bereaksi karo dheweke kanggo mbentuk silika ing permukaan wafer.Difusi kanggo mindhah zat saka wilayah konsentrasi dhuwur menyang wilayah konsentrasi kurang liwat gerakan termal molekul, lan proses difusi bisa digunakake kanggo doping zat doping tartamtu ing substrat silikon, saéngga ngganti konduktivitas semikonduktor.
